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要求对叶某造假以及“自我剽窃”问题作处理

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发表于 2009-8-13 09:04 | 显示全部楼层 |阅读模式
浙江大学叶某两篇撤稿文章



从浙江大学叶某两篇撤稿文章想到的  作者:吕优  

前段时间新语丝上有多篇文章爆光浙江大学叶教授在氧化锌P型掺杂方面的造假行为。然而叶大教授一如既往的保持沉默,一副清者自清的态度。而那些评论的文章,也因此就象大力士打在棉花团一样有力无处使,只知道一个劲的说叶教授得到哪个院士的支持,得到校长的鼓励,而不是提供确凿的证据。这样的评论虽然能够提醒别人不要忘记叶大教授在造假,但是往往也就让读者将信将疑而已。作为一个在氧化锌掺杂方面的同行,我也来说两句。叶某的数据极其不可信在同行内是不争的事实,笔者曾经在国外召开的ZnO国际会议上,亲耳听到众多外国同行对其工作的嘲讽。氧化锌的掺杂是个非常复杂的问题,其P型掺杂很不稳定。也正因为如此,这也给了造假者极大的空间。叶造假的策略就是我随便做个薄膜,然后用那个地球人都知道是笑话的霍耳测量仪一测,就说这个东西是P型。我比较佩服的是叶在写文章方面的功夫做得很足,数据什么的大都在合理的范围,一般还找不出破绽。你怀疑归怀疑,人家文章就是一篇篇的发。据说现在叶志镇现在到处在找人测量以证明自己的东西是正确的。只是文章是白纸黑字的,希望叶能证明那些他发表的溅射出来的薄膜都是P型的。如果都是这样的话,那些国外卖做ZnO 的MOCVD设备的厂家估计都要大规模裁员了。  

笔者在看到新语丝上的评论文章以后,一时兴起去搜了一下叶的文章。发现两篇叶的撤稿文章:  

1. Yuan G.D. , Zhu L.P., Ye Z.Z., Qian Q., Zhao B.H., Fan R.X. Thin solid films, 484, 420-425, 2005.  

2. Yuan G.D., Ye Z.Z., Qian Q., Zhu U.P., Huang J.Y., Zhao B.H. Journal of crystal growth, 273, 451-457,2005.

这两篇文章, 第一作者都是G . D. Yuan, 根据叶中文文章里的作者名字,应该叫袁国栋。通讯作者Z. Z. Ye. 两篇文章的撤稿时间大至在新语丝评论以后. 其中一篇撤稿的理由是” The secondary ion mass spectrometry (SIMS) profile published in this paper had already been included in articles published in Mater. Lett., 58 (2004) 3741–3744 and in J. Crystal Growth, 273 (2005) 451–457. In the former, the SIMS data describe a sample prepared under different conditions. The author did not notify either the Thin Solid Films Editors or the coauthors of this fact. The author apologizes sincerely to the readers, referees, and Editors for violating the guidelines of ethical publication. Also the author apologizes to the coauthors for mishandling of the manuscript.”  

从这两篇撤稿文章可以看出叶的确凿的造假以及一稿三投的事实:两篇文章都是在materials Letter 2004 年发表以后再发表的。里面的有部分内容完全相同,但是生长的条件却不同。从editor发表的撤稿声明来看,Yuan G. D. 特意强调了一句,那就是这是他的个人行为,别的作者都不知道,这明显就是此地无银三百两。谁能相信,做为三篇文章的通讯作者,叶某会对这个一无所知?很显然是叶某在网络质疑声沸沸扬扬的时候,授意他的学生把两篇文章撤稿的。退一步来说,如果叶真的不知道的话,作为浙江大学毕业的博士,Yuan G. D.的毕业论文里面肯定有这部分内容,明显涉嫌造假, 那浙江大学是不是要对授于袁的博士学位给个说法?有意思的是,网络上还搜出这个Yuan G. D. 后来还在香港城市大学发表的几篇P型掺杂的文章,通讯作者是大名鼎鼎的纳米院士李述汤,其中一篇也有Z. Z. Ye的大名,看样子叶和李院士那边还有合作,不知道这其中是不是有猫腻?否则的话,浙江大学再牵出个李院士,那就有得热闹看了。丛叶的两篇撤稿文章我们也可以看到,虽然叶对新语丝上的文章采取鸵鸟埋沙的态度, 但是其内心还是心虚胆怯的。殊不知道这么一撤稿,就露出了狐狸的尾巴。这就让人想起人人皆知的法官断案的故事:法官不知道谁是小偷,就告诉嫌疑犯谁是小偷摸了钟手就变黑, 然后让人在黑房子里去摸表面有墨粉的钟,最后只有小偷手是白的,因为他心虚不敢摸钟。另外,笔者不得不感叹网络时代信息搜集的强大。任何小小的动作都无法遁形。所以奉劝那些想心存侥幸造假的人,在网络时代造假还是有高风险的。虽然你以为做得天衣无缝,但总有百密一疏的时候,常在河边走,总有湿鞋的时候。要想不为人诟病,还是脚踏实地做工作的好。  

此外,笔者也在反思为什么叶发了如此多的文章到现在才有人出来质疑。其实大家原来的时候对那些结果都是将信将疑,但是本着无罪推定的态度,相信别人做得好。只是这两年,随着ZnO研究的深入,以及ZnO P型掺杂难以实现的事实。大家才明白过来原来叶宣称的都不是那么一回事。试想如果ZnO 掺杂如果现在被别的小组成功解决的话, 叶是不是就成了ZnO 掺杂的鼻祖被别人顶礼膜拜呢?现在国内相当一部分研究造假其实都在走这个路子。实验结果单纯按照自己的想法推断预测,这种数据造假隐蔽性很强,真假难断。有些人可以凭借自己聪明的脑袋就造出美妙的数据。但是假的就是假的,当真相浮现的时候,那些白纸黑字的文章就成了造假的直接证据。那时候难道你也要象叶某那样去撤稿吗?
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发表于 2009-8-13 09:50 | 显示全部楼层
路过[em94]
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 楼主| 发表于 2009-8-13 09:50 | 显示全部楼层
浙江大学叶教授数次一稿七发英文论文,严重学术腐败!
(转载)浙江大学叶教授数次一稿七发英文论文,严重学术腐败!

  作者:晓评

  在查阅文献时,发现浙江大学教授叶和Haoqiang Zhang等人的两篇关于
GaN的英文论文完全相同,投稿日期相差几天,完全属于一稿多投(见附件第一
组)。进一步发现另外5篇英文论文,和上述两篇论文的内容和图谱基本相同,
只是图谱和文字略有增减(见附件第二组)。太厉害啦,同样的内容竟然搞成了
7篇英文论文,发表在不同的国际杂志上,恐怕是绝无仅有了!

  这激起我强烈的打假兴趣,在网上搜索了一番,被彻底雷倒,问题还更严重。
叶等人多次、多批量的一稿两投、甚至一搞三投(见附件第三~七组),触
目惊心!有的论文文字图谱完全一样,有的部分论文图谱基本一样,文字略有变
动。分投了不同的杂志,但叶等人似乎精通反打假术,在abstract和作者顺
序以及作者姓名的翻译方法上精心作了改变。

  简单搜索,就发现了浙江大学叶教授七组(十九篇)重复投稿的论文
(见附件),时间跨度从1999年至2003年,部分文章第一作者是他本人。朋友若
有兴趣和耐心的话,可以继续搜索,相信还会有更大突破。

  一稿多投的数目之大,范围之广,实在令人乍舌!如此的学术道德,浙江大
学如何能够容忍?奇怪的是,居然一直没有人发现? 浙江大学Sci论文数量最近
排在高校前列,难道是这样写出来的?

  叶何许人也?从浙江大学校网上介绍可知:叶是浙江大学的牛人之
一。叶,教授,博导,1955年5月28日生,1987年毕业于浙江大学光仪系并获
博士学位。现任浙大材料与化工学院副院长,硅材料国家重点实验室主任,浙大
纳米科学与技术中心主任。中国电子学会第五届理事、中国电子材料委员会委员、
半导体与集成技术委员会委员;中国有色金属半导体材料委员会委员;浙江省纳
米材料协会副理事长;《半导体学报》、《科技通报》、《材料科学与工程》编
委等。93年获国家教育部优秀年青教师基金,94年被评为全国国家重点实验室全
国先进工作者并获“金牛奖”;95年遴选为浙江省首批“中青年学术带头人”;
96年入选国家教育部“跨世纪优秀人才培养计划”;97年入选国家“百千万人才
工程”第一、二层次培养计划;98年享受国务院特殊津贴。国内外期刊上发表论
文175篇,被SCI收录65篇、EI收录75余篇。

  牛人啊!牛人。

  附件:叶重复发表论文的清单

  第一组论文:

  (以下两篇论文文字图谱几乎一模一样,作者姓名巧妙改变)

  1. An investigation on the epitaxial growth of GaN film on
Si(111) substrate,H. X. Zhang, Z. Z. Ye, B. H. Zhao,Journal Of
Materials Science Letters 19 (2000) 529– 531

  2. Investigation of preparation and properties of epitaxial
growth GaN “lm on Si(1 1 1) substrate,Haoxiang Zhang, Zhizhen Ye,
Binghui Zhao,Journal of Crystal Growth 210 (2000) 511-515

  第二组论文:

  (以下四篇论文在第一组论文基础上,增减少量图谱,内容基本一样)

  1. An investigation of structural, optical and electrical
properties of GaN thin films grown on Si(111) by reaction evaporation,
Haoxiang Zhang, Zhizhen Ye, Binghui Zhao,Solid-State Electronics 46
(2002) 301–306

  2. Hexagonal GaN epitaxial growth on silicon (111) by a
vacuum reactive evaporation, Haoxiang Zhang, Zhizhen Ye, and Binghui
Zhao,phys. Stat.sol. (a), 177(2000)485

  3. Epitaxial growth of wurtzite GaN on Si(111) by a vacuum
reactive evaporation, Journal of Applied Physics Vol. 87, No. 6,
(2000),2830-2833

  4. Structure and photoluminescence characterization of GaN
film grown on Si (111) substrate,Ye ZHI-zhen, Zhang HAO-xiang, Lu
HUAN-ming, Zhao BIN-hui, CHIN.PHYS.LETT.,Vol.16, No.4.(1999)293

  5. X-ray diffraction, photoluminescence and secondary ion
mass spectroscopy study of GaN films grown on Si(111) substrate by
vacuum reactive evaporation, Haoxiang Zhang, Zhizhen Ye, Binghui Zhao
and Hongxue Liu, Semicond. Sci. Technol. 15 (2000) 649–652.

  第三组论文:

  (以下三篇论文内容基本相同,连文字也改变较少,作者名字顺序稍作改变。
其中第2篇和第3篇几乎一字未改)

  1. 掺碳锗硅合金最新研究进展,亓震,叶,材料科学与工程,
第16 卷第3期, (1998)22

  2. 掺碳锗硅合金的制备及其性能研究进展,亓震,叶,黄靖云,
卢焕明,赵炳辉,半导体光电,第20 卷第3期, (1999)154

  3. 锗硅碳合金的制备及其性能研究进展,亓震,卢焕明,赵炳辉,
黄靖云,叶,半导体技术,第24 卷第5期, (1999)1

  第四组论文:

  (以下两篇中文论文内容基本相同,连文字也改变较少,作者名字顺序稍作
改变。)

  1. UHV/CVD外延生长锗硅碳三元合金中碳的应变缓解效,叶,
章国强,亓震,黄靖云,卢焕明,赵炳辉,汪雷,袁骏,第21卷第3期,半导体
学报,Vol. 21. No. 3, (2000)239

  2. 锗硅碳合金中碳的应变缓解效应研究,章国强,黄靖云,亓震,
卢焕明,赵炳辉,汪雷,叶,材料科学与工程,第18 卷第1 期, (2000)25

  第五组论文:

  (以下两篇论文内容基本相同,连文字也改变较少,作者名字顺序稍作改
变。)

  1. Effects of oxygen pressure on the c -axis oriented
growth of LiNbO3 thin film on SiO2/Si substrate by pulsed laser
deposition, Xinchang Wang,Junhui He,Jingyun Huang, Binghui Zhao,
Zhizhen Ye? Journal of Materials Science Letters 22, 2003, 225– 227

  2. Growth and characterization of C -oriented growth of
LiNbO3 thin film on Si (100) by PLD, Xinchang Wang,Zhizhen Ye, Junhui
He, Jingyun Huang, Binghui Zhao, International Journal of Mordern
Physics, Vol.16, Nos.28-29, (2002)4343

  第六组论文:

  (以下三篇外文论文内容基本相同,图谱也基本相同)

  1. A novel technique to grow Ge quantum dots on porous Si
by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition, Jingyun Huang, Zhizhen
Ye, Lei Wang,Journal of Materials Science Letters 21, 2002, 129– 131

  2. Area preferental nucleation of Ge nano-dots on nano-size
porous silicon, Jingyun Huang, Zhizhen Ye, Haiyan Zhang, Xianfeng Ni,
Materials Research Bulletin, 37(2002)793

  3. Photoluminescence of Ge quantum dots prepared on porous
silicon by ultrahigh vacuum chemical vapor deposition, Jingyun Huang,
Zhizhen Ye, Binghui Zhao, Xiangyang Ma, Yadong Wang, Applied Physics
Letters, Vol. 78, No. 13, ( 2001)1858

  第七组论文:

  (以下两篇论文内容和图谱基本相同,连文字也改变较少。)

  1. Effect of substrate temperature on the properties of
Zn1-xMgxO films on silicon, Zou Lu, Ye Zhizhen, Huang Jingyun, Zhao
Binhui, International Journal of Mordern Physics, Vol.16, Nos.28-29,
(2002)4255-4258

  2. Structure and charactrization and photoluminecent
preperties of Zn1-xMgxO films on silicon, ZOU Lu, YE Zhi-zhen, HUANG
Jing-yun, ZHAO Bin-hui, CHIN.PHYS.LETT., Vol.19, No.9. (2002)1350

(XYS20081229)

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 楼主| 发表于 2009-8-13 09:51 | 显示全部楼层
浙江大学叶教授涉嫌伪造实验数据骗取国家自然科学二等奖
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浙江大学叶教授涉嫌伪造实验数据骗取国家自然科学二等奖

作者:樊贾

  因为特等奖和一等奖空缺,国家自然科学二等奖通常代表中国自然科学领域
非常杰出的研究成果。因而,在普通百姓的眼里这是一项极高的荣誉。然而,这
样一项非常严肃的科学成就奖项也难免受到玷污。浙江大学的叶去年因
“ZnO基材料生长、P型掺杂与室温电致发光研究”荣获了这一奖项。姑且不论他
们成果的真实性(据说圈内人士颇有看法),从他们发表的文章就可以看出一些
造假的嫌疑。让我们仔细地看一下叶发表在半导体学报26卷11期2664-2666
页和APPLIED PHYSICS LETTERS 88, 173506的两篇文章吧。在半导体学报和APL
的文章里作者都给出了电致发光的光谱。仔细检查两个光谱曲线,除了光谱波长
范围的差别外,可以肯定地讲,在相同的波长范围内两条光谱曲线是完全相同的,
甚至噪声信号都完全相同,可以肯定来源于同一次测试,或者来源于同一次伪造。
但是,作者在两篇文章中对获得这两条曲线的测量条件给出了不同的说明。在
APL的文章的Fig. 4中,明确标明二极管的驱动电流为40毫安,但半导体学报中
却讲“图3 给出了室温下对ZnO 发光二极管加22V 正向偏压、80mA 电流时的电
致发光谱”。我们基本可以认为在某一篇文章中叶教授说了假话。

  出于好奇,本人检索了叶近年来发表的同ZnO p型掺杂的文章,现将文
章列出如下。粗读文章后大有感慨,叶教授可以算是高手中的高手,无论采取
MOCVD方法,还是磁控溅射方法,叶教授都可以从容地实现ZnO的p型掺杂。为此
本人又同其他国内外其他从事ZnO研究的人探讨过此事的可能性,绝大多数人表
示怀疑。

  或许,叶教授会用自己粗心来为本人指出的造假之嫌辩护,但这样的辩护真
的很无力。其实,叶教授很容易证实自己的清白,重新制备样品,请5-10个相关
研究的课题组证实其真伪。如果其结果为真,本人及其他持相同意见者从此封住
嘴巴。如果为假,希望叶教授和其他当事者承认错误,退回奖项。接受浙江大学
的相关处理。

  记得杨卫校长在接受央视柴静采访时讲到过他的决心,希望杨校长真正能够
落实在行动上。

APPLIED PHYSICS LETTERS 85, 3134
APPLIED PHYSICS LETTERS 86, 202106
APPLIED PHYSICS LETTERS 87, 092103
APPLIED PHYSICS LETTERS 87, 252106
APPLIED PHYSICS LETTERS 88, 062107
APPLIED PHYSICS LETTERS 88, 062110
APPLIED PHYSICS LETTERS 89, 042106
APPLIED PHYSICS LETTERS 89, 053501
APPLIED PHYSICS LETTERS 89, 252113
APPLIED PHYSICS LETTERS 91, 113503
APPLIED PHYSICS LETTERS 92, 231913
Applied Surface Science 245, 109–113
Applied Surface Science 253, 1903–1906
Applied Surface Science 253, 2345–2347
Chemical Physics Letters 420, 358–361
Chemical Physics Letters 432, 352–355
J MATER SCI 41, 467–470
J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 2339–2342
J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 3177–3181
J.CrystalGrowth(2009)
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 99, 023503
Journal of Crystal Growth 259, 279–281
Journal of Crystal Growth 274, 425–429
Journal of Crystal Growth 283, 413–417
Journal of ELECTRONIC MATERIALS 36, 498
Materials Letters 57, 3311 –3314
Materials Letters 58, 3741–3744
Materials Letters 60, 912–914
Materials Letters 62, 2554–2556
Optical Materials 30, 1422–1426
Solid State Communications 138, 542–545
Solid State Communications 143, 562–565
Superlattices and Microstructures 43, 278–284
Surface & Coatings Technology 198, 354–356
Thin Solid Films 476, 272–275

(XYS20090402)

◇◇新语丝(www.xys.org)(xys3.dxiong.com)(www.xysforum.org)(xys2.dropin.org)◇◇
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发表于 2009-8-13 10:56 | 显示全部楼层
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